ヒ素除去システムおもな納入事例

 

 

ヒ素除去システムおもな納入事例

レクリエーション施設飲料水設備

納入場所 : 福岡県

納入時期 : 2000年

処理水量 : 180m3/日

ヒ素濃度 : 0.027mg/L

処理後  : 0.001mg/L未満

温泉保養所温泉排水設備

納入場所 : 長野県

納入時期 : 2001年

処理水量 : 10m3/日

ヒ素濃度 : 0.72mg/L

処理後  : 0.005mg/L未満

半導体工場排水設備

納入場所 : 広島県

納入時期 : 2002年

処理水量 : 320m3/日

ヒ素濃度 : 0.05mg/L

処理後  : 0.005mg/L未満

小学校給水施設飲料水設備

納入場所 : 熊本県

納入時期 : 2003年

処理水量 : 40m3/日

ヒ素濃度 : 0.012mg/L

処理後  : 0.002mg/L

ショッピングセンター飲料水設備

納入場所 : 愛知県

納入時期 : 2004/2006年

処理水量 : 100m3/日(200m3/日)

ヒ素濃度 : 0.014mg/L

処理後  : 0.01mg/L以下

給水飲料水設備

納入場所 : 広島県

納入時期 : 2004年

処理水量 : 40m3/日

ヒ素濃度 : 0.04mg/L

処理後  : 0.001mg/L未満

福祉施設飲料水設備

納入場所 : 佐賀県

納入時期 : 2004年

処理水量 : 62m3/日

ヒ素濃度 : 0.02mg/L

処理後  : 0.001mg/L未満

ショッピングセンター飲料水設備

納入場所 : 鹿児島県

納入時期 : 2005年

処理水量 : 300m3/日

ヒ素濃度 : 0.014mg/L

処理後  : 0.01mg/L以下

機械装置気化ヒ素除去設備

納入場所 : 東京都

納入時期 : 2003、2004、2006年

処理水量 : 30m3-Air/日

ヒ素濃度 : 0.00017mg/L

       (ガス濃度)

温泉宿泊施設温泉排水設備

納入場所 : 宮城県

納入時期 : 2006年

処理水量 : 100m3/日

ヒ素濃度 : 2.0mg/L

処理後  : 0.005mg/L未満

給水飲料水設備

納入場所 : 長野県

納入時期 : 2008年

処理水量 : 280m3/日

ヒ素濃度 : 0.02mg/L

処理後  : 0.001mg/L未満

給水飲料水設備

納入場所 : 大分県

納入時期 : 2009年

処理水量 : 32.4m3/日

ヒ素濃度 : 0.011mg/L

処理後  : 0.001mg/L未満

給水飲料水設備

納入場所 : 大分県

納入時期 : 2009年

処理水量 : 18m3/日

ヒ素濃度 : 0.011mg/L

処理後  : 0.001mg/L未満

入浴施設温泉排水設備

納入場所 : 北海道

納入時期 : 2001年

処理水量 : 75m3/日

給水飲料水設備

納入場所 : 兵庫県

納入時期 : 2002年

処理水量 : 5m3/日

処理場給水飲料水設備

納入場所 : 青森県

納入時期 : 2007年

処理水量 : 50m3/日

ミネラルウォーター処理設備

納入場所 : 宮城県

納入時期 : 2007年

処理水量 : 2m3/日

その他 海外では多数の納入実績があります!